- 专利标题: 表面光洁度改善型屏蔽料、制备方法和半导电屏蔽制品
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申请号: CN202210870905.9申请日: 2022-07-22
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公开(公告)号: CN115093639B公开(公告)日: 2024-06-21
- 发明人: 伍国兴 , 章彬 , 巩俊强 , 徐曙 , 张成巍 , 侯帅 , 傅明利 , 黎小林 , 贾磊 , 展云鹏 , 朱闻博 , 惠宝军 , 冯宾 , 张逸凡
- 申请人: 深圳供电局有限公司 , 南方电网科学研究院有限责任公司
- 申请人地址: 广东省深圳市罗湖区深南东路4020号电力调度通信大楼;
- 专利权人: 深圳供电局有限公司,南方电网科学研究院有限责任公司
- 当前专利权人: 深圳供电局有限公司,南方电网科学研究院有限责任公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市罗湖区深南东路4020号电力调度通信大楼;
- 代理机构: 华进联合专利商标代理有限公司
- 代理商 胡哲
- 主分类号: C08L23/08
- IPC分类号: C08L23/08 ; C08K3/04 ; C08K3/14
摘要:
本发明涉及一种表面光洁度改善型屏蔽料、制备方法和半导电屏蔽制品。表面光洁度改善型屏蔽料主要通过质量份数分别为55份~65份的基体树脂、20份~30份的导电炭黑、1份~10份的Ti3C2MXene、0.5份~2份的分散剂、3份~6份的功能助剂以及0.9份~2份的交联剂制成。其中,Ti3C2MXene表面具有极性官能团,与基体树脂有良好的相容性,可以提高导电炭黑在基体树脂中的分散性,减少屏蔽料表面的凸起,改善屏蔽料的表面光洁度,同时还可以提高屏蔽料的力学性能。
公开/授权文献
- CN115093639A 表面光洁度改善型屏蔽料、制备方法和半导电屏蔽制品 公开/授权日:2022-09-23