发明授权
- 专利标题： 一种具有径向微沟槽的抛光垫
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申请号： CN202210754859.6申请日： 2022-06-29
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公开(公告)号： CN114918824B公开(公告)日： 2024-08-20
- 发明人: 刘加岭 , 王凯
- 申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 申请人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人： 万华化学集团电子材料有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
- 主分类号： B24B37/26
- IPC分类号： B24B37/26
摘要：
本发明公开了一种具有径向微沟槽的抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有一旋转中心，以及与所述旋转中心同心的抛光轨迹区和环向沟槽，所述抛光轨迹区含有径向微沟槽，所述径向微沟槽的取向满足抛光时抛光介质的流型函数。本发明的抛光垫能够合理改变抛光介质在抛光垫上的停留时间，有效提升抛光速率的同时，能显著降低抛光时的终点温度，并能够提高片内和片间的均匀性。
公开/授权文献
- CN114918824A 一种具有径向微沟槽的抛光垫 公开/授权日：2022-08-19
