Invention Publication
CN114787666A 光学构件及其制造方法
审中-实审
- Patent Title: 光学构件及其制造方法
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Application No.: CN202080083488.2Application Date: 2020-10-29
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Publication No.: CN114787666APublication Date: 2022-07-22
- Inventor: 饭塚章 , 大嶋毅士 , 中野耕一
- Applicant: 日本轻金属株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 日本轻金属株式会社
- Current Assignee: 日本轻金属株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- Agent 杨琦; 尹明花
- Priority: 2019-217700 20191202 JP
- International Application: PCT/JP2020/040655 2020.10.29
- International Announcement: WO2021/111780 JA 2021.06.10
- Date entered country: 2022-06-01
- Main IPC: G02B1/111
- IPC: G02B1/111 ; C01B33/12 ; C23C26/00 ; C23C28/04 ; C25D11/18 ; C25D11/22 ; C25D11/26 ; G02B1/10 ; G03F1/64
Abstract:
本发明提供一种能够比较廉价地制造的轻质的光学构件及其有效的制造方法，该光学构件具有低反射率及对光照射的稳定性和耐磨损性。本发明所涉及的光学构件的特征在于：具有金属基材；形成于金属基材的表面的低反射率处理层；和形成于低反射率处理层的表面的二氧化硅层。二氧化硅层的层厚优选为0.1～10μm。
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