发明授权
- 专利标题： 低电流密度促进铁碳微电解深度除磷的方法
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申请号： CN202210477152.5申请日： 2022-05-03
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公开(公告)号： CN114715983B公开(公告)日： 2024-05-07
- 发明人: 陈丹 , 孙雪萍 , 沈锦优 , 侯成 , 孙秀云 , 江心白 , 刘晓东
- 申请人： 南京理工大学
- 申请人地址： 江苏省南京市孝陵卫200号
- 专利权人： 南京理工大学
- 当前专利权人： 南京理工大学
- 当前专利权人地址： 江苏省南京市孝陵卫200号
- 代理机构： 南京理工大学专利中心
- 代理商 刘海霞
- 主分类号： C02F1/461
- IPC分类号： C02F1/461 ; C02F1/48 ; C02F101/10
摘要：
本发明公开了一种低电流密度促进铁碳微电解深度除磷的方法。所述方法通过在铁碳微电解系统中引入电场，实现含磷废水的去除。本发明在铁碳微电解系统中引入低电流密度，能够有效地促进铁碳微电解填料中铁的氧化，提高除磷效率，同时延长铁碳微电解填料的寿命，减少损耗节约成本，实现磷酸铁盐的回收利用。
公开/授权文献
- CN114715983A 低电流密度促进铁碳微电解深度除磷的方法 公开/授权日：2022-07-08
