本发明涉及聚变装置的硼化技术，具体公开了一种用于聚变装置内部腔室硼化的预处理装置及其应用。本发明通过在聚变装置的外部设置预电离室对硼粉进行预电离，从而避免了对聚变装置真空室内部真空度等条件稳定性的影响，同时杜绝了污染物的带入，能够对聚变装置真空室的已有硼膜随时进行补强。预电离后的硼离子在进入聚变装置真空室内部后，在聚变反应放电的同时就能够进行对真空室内壁的硼化，无需额外的硼化步骤，简化了操作步骤，可满足未来聚变装置将运行很长的脉冲(即准稳态)或者运行于稳态放电的需要。