Invention Publication
- Patent Title: 光学防伪元件及其制作方法、防伪产品
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Application No.: CN202011255955.3Application Date: 2020-11-11
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Publication No.: CN114475043APublication Date: 2022-05-13
- Inventor: 胡春华 , 朱军 , 张义恒 , 封敏宇
- Applicant: 中钞特种防伪科技有限公司 , 中国印钞造币总公司
- Applicant Address: 北京市丰台区科学城星火路6号;
- Assignee: 中钞特种防伪科技有限公司,中国印钞造币总公司
- Current Assignee: 中钞特种防伪科技有限公司,中国印钞造币总公司
- Current Assignee Address: 北京市丰台区科学城星火路6号;
- Main IPC: B42D25/30
- IPC: B42D25/30 ; B42D25/328 ; B42D25/378 ; B42D25/373 ; B42D25/40 ; B42D25/45 ; B42D25/43 ; G02B5/10

Abstract:
本发明实施例提供一种光学防伪元件及其制作方法、防伪产品。光学防伪元件包括起伏结构层,包括相对的第一表面和第二表面,第二表面包括第一区域和第二区域;第一区域具有第一微结构,第二区域具有第二微结构,其中第一微结构不同于第二微结构;第一反射层,位于第一区域上;第二反射层,至少位于第二区域上;从第一表面一侧观察时,第一区域和第二区域分别具有第一反射层和第二反射层呈现的视觉特征。通过上述技术方案,本发明实施例主要提供一种光学防伪元件,光学防伪元件通过起伏结构层分区设置,且在对应的各个区域对应设有不同的反射层,从而使得用户从起伏结构层的另一面观测,不同的区域呈现出对应反射层的视觉特征,以此提高抗伪造能力。
Public/Granted literature
- CN114475043B 光学防伪元件及其制作方法、防伪产品 Public/Granted day:2023-04-28
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