Invention Grant
- Patent Title: 质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法
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Application No.: CN202080053697.2Application Date: 2020-07-22
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Publication No.: CN114207774BPublication Date: 2024-07-23
- Inventor: 安田博幸 , 桥本雄一郎 , 菅原佑香 , 田村陆
- Applicant: 株式会社日立高新技术
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社日立高新技术
- Current Assignee: 株式会社日立高新技术
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京银龙知识产权代理有限公司
- Agent 许静; 范胜杰
- International Application: PCT/JP2020/028373 2020.07.22
- International Announcement: WO2021/020260 JA 2021.02.04
- Date entered country: 2022-01-25
- Main IPC: H01J49/24
- IPC: H01J49/24 ; H01J49/42 ; G01N27/62

Abstract:
本发明提供能够更适当地维持真空室的气压的质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法。本发明的质量分析装置的一例具备:第一真空室(101、201、301、401、501)、第一真空泵(106、203、303、403、503)、大气压相关值取得单元、调节第一真空泵(106、203、303、403、503)的实效排气速度的调节单元、控制装置(111、206、306、406、506),控制装置(111、206、306、406、506)根据大气压相关值对调节单元进行控制。
Public/Granted literature
- CN114207774A 质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法 Public/Granted day:2022-03-18
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