发明授权
- 专利标题： 基板保持装置以及离子注入装置
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申请号： CN202110715711.7申请日： 2021-06-25
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公开(公告)号： CN114188202B公开(公告)日： 2024-05-07
- 发明人: 后藤亮介 , 小野田正敏 , 中泽喜之
- 申请人： 日新离子机器株式会社
- 申请人地址： 日本京都府
- 专利权人： 日新离子机器株式会社
- 当前专利权人： 日新离子机器株式会社
- 当前专利权人地址： 日本京都府
- 代理机构： 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
- 代理商 崔迎宾; 李雪春
- 主分类号： H01J37/20
- IPC分类号： H01J37/20 ; H01J37/317
摘要：
本发明提供一种基板保持装置以及离子注入装置，能够抑制保持基板的支架变形。所述基板保持装置具备：保持基板的支架；与支架接合并规定支架的旋转轴的轴部件；以及支承轴部件的支架支承部件，通过使支架绕规定的旋转轴进行旋转动作而能够在倒伏位置与立起位置之间移动，支架具备：彼此分离地配置在旋转轴上的多个基板支承部件；以及将多个基板支承部件的一端部连结的第一连结部件，轴部件沿着所述旋转轴与各基板支承部件接合。
公开/授权文献
- CN114188202A 基板保持装置以及离子注入装置 公开/授权日：2022-03-15
