- 专利标题: 一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质
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申请号: CN202010861889.8申请日: 2020-08-25
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公开(公告)号: CN114185169B公开(公告)日: 2024-03-05
- 发明人: 请求不公布姓名
- 申请人: 成都理想境界科技有限公司
- 申请人地址: 四川省成都市高新区世纪城路1129号天府软件园A区8栋1层
- 专利权人: 成都理想境界科技有限公司
- 当前专利权人: 成都理想境界科技有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区世纪城路1129号天府软件园A区8栋1层
- 主分类号: G02B27/00
- IPC分类号: G02B27/00 ; G03B21/60 ; G03B21/602 ; G03B35/20
摘要:
本发明公开了一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质,该方法应用于光场显示中,实现所述光场显示的设备包括投影仪阵列和散射屏,所述散射屏被分为N个区域,所述N个区域设置为非均匀散射角,N为正整数;所述方法包括:构建关于相似度变量或条纹间隔变量的代价函数;根据预设优化算法对所述代价函数进行优化,确定所述代价函数的极值;根据所述代价函数的极值确定优化后的散射角;其中,所述极值对应的N个散射角为所述优化后的散射角。上述方案用于解决现有技术中存在的,投影仪出射的光经过定向散射屏后,人眼接收到的画面不能很好的拼接,会存在狭缝或重叠,导致光场显示效果变差的技术问题。
公开/授权文献
- CN114185169A 一种散射屏参数优化方法、散射屏及可读存储介质 公开/授权日:2022-03-15