一种激光抛光装置及抛光方法
摘要:
本发明涉及激光加工领域,具体涉及一种激光抛光装置及抛光方法;所述激光抛光装置包括激光器单元、水槽以及回转工作台,所述激光器单元包括激光器和三维振镜,所述激光器发射激光,激光经三维振镜调整光斑位置后输出;所述水槽内含水介质并用于容纳待抛光产品;所述回转工作台设置在水槽内用于固定待抛光产品,所述回转工作台能够带动待抛光产品进行三维移动,本发明通过利用在水下辅助的激光抛光方式,通过水介质使得待抛光产品抛光加工处的热影响区大大减小或消除;通过设置三维振镜和回转工作台相互联动配合,实现对激光焦距光斑和待抛光产品表面加工部位与水介质表面之间的水层厚度的控制,从而实现曲面陶瓷在水下激光抛光。
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