发明公开
CN114178702A 一种激光抛光装置及抛光方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种激光抛光装置及抛光方法
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申请号: CN202111448523.9申请日: 2021-11-30
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公开(公告)号: CN114178702A公开(公告)日: 2022-03-15
- 发明人: 赵振宇 , 王超 , 曾俊勇 , 张玉洁 , 张卫
- 申请人: 深圳信息职业技术学院
- 申请人地址: 广东省深圳市龙岗区龙城街道龙翔大道2188号
- 专利权人: 深圳信息职业技术学院
- 当前专利权人: 深圳信息职业技术学院
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市龙岗区龙城街道龙翔大道2188号
- 代理机构: 深圳市道臻知识产权代理有限公司
- 代理商 陈琳
- 主分类号: B23K26/352
- IPC分类号: B23K26/352 ; B23K26/60 ; B23K26/70
摘要:
本发明涉及激光加工领域,具体涉及一种激光抛光装置及抛光方法;所述激光抛光装置包括激光器单元、水槽以及回转工作台,所述激光器单元包括激光器和三维振镜,所述激光器发射激光,激光经三维振镜调整光斑位置后输出;所述水槽内含水介质并用于容纳待抛光产品;所述回转工作台设置在水槽内用于固定待抛光产品,所述回转工作台能够带动待抛光产品进行三维移动,本发明通过利用在水下辅助的激光抛光方式,通过水介质使得待抛光产品抛光加工处的热影响区大大减小或消除;通过设置三维振镜和回转工作台相互联动配合,实现对激光焦距光斑和待抛光产品表面加工部位与水介质表面之间的水层厚度的控制,从而实现曲面陶瓷在水下激光抛光。