Invention Publication
CN114010845A 一种近红外光响应抗菌涂层及制备方法
无效 - 驳回
- Patent Title: 一种近红外光响应抗菌涂层及制备方法
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Application No.: CN202111281299.9Application Date: 2021-11-01
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Publication No.: CN114010845APublication Date: 2022-02-08
- Inventor: 孙静 , 孙阿勇 , 叶玮 , 吴小泉 , 刘静静 , 柳森 , 张超
- Applicant: 淮阴工学院
- Applicant Address: 江苏省淮安市经济技术开发区枚乘东路1号
- Assignee: 淮阴工学院
- Current Assignee: 淮阴工学院
- Current Assignee Address: 江苏省淮安市经济技术开发区枚乘东路1号
- Agency: 南京苏高专利商标事务所
- Agent 常孟
- Main IPC: A61L31/10
- IPC: A61L31/10 ; A61L31/08 ; A61L31/14 ; A61L31/16 ; A61K41/00 ; A61K33/00 ; A61P31/04

Abstract:
本发明公开了一种近红外光响应抗菌涂层及制备方法,该涂层为PDA@MSN@FeCO,包括负载于基底上用于光热响应的多巴胺层、负载于多巴胺层上的介孔二氧化硅以及负载于介孔二氧化硅孔道内的用于释放一氧化碳的羰基铁。发明以MSN为药物载体,负载热敏性CO供体,得到MSN@FeCO纳米材料,进一步利用PDA涂层的强黏附性,将MSN@FeCO负载至基底层,同时利用PDA的光热响应性能,在近红外光照下触发羰基铁释放CO分子,展现出良好的光热与CO协同抗菌疗效,实现安全可控的抗菌效果,该抗菌涂层的制备方法简单易行且成本较低,适用于生物医疗领域。
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