发明公开
- 专利标题： 一种高熔接痕强度的PC/PBT组合物及其制备方法
-
申请号： CN202111260526.X申请日： 2021-10-28
-
公开(公告)号： CN113956642A公开(公告)日： 2022-01-21
- 发明人: 陈晶斌 , 陈连清 , 祁先勇 , 张振威 , 童艳萍 , 齐鹏飞
- 申请人： 万华化学(宁波)有限公司 , 万华化学集团股份有限公司
- 申请人地址： 浙江省宁波市大榭开发区环岛北路39号万华工业园;
- 专利权人： 万华化学(宁波)有限公司,万华化学集团股份有限公司
- 当前专利权人： 万华化学(宁波)有限公司,万华化学集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省宁波市大榭开发区环岛北路39号万华工业园;
- 主分类号： C08L69/00
- IPC分类号： C08L69/00 ; C08L67/02 ; C08L71/02 ; C08G65/28
摘要：
本发明提供了一种高熔接痕强度的聚碳酸酯(PC)/聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)组合物及其制备方法，该组合物主要包含PC、PBT和嵌段共聚物。所述组合物通过引入嵌段共聚物，降低了合金(尤其是PC组分)的玻璃化转变温度，使两股熔体相遇时保持更好的分子链运动能力，进而两股熔体的相互粘结性改善，最终提高熔接痕强度。
公开/授权文献
- CN113956642B 一种高熔接痕强度的PC/PBT组合物及其制备方法 公开/授权日：2023-07-11
