本发明公开一种全氟聚合物膜及其制备方法和应用、航天设备,涉及材料改性领域，以解决现有技术中辐射制冷薄膜不能同时实现高反射率和高抗辐照性的技术问题。本发明实施例的全氟聚合物膜采用如下配方制得：所述配方至少包括全氟聚合物和紫外波段无吸收的填料，所述填料包括Al2O3、Y2O3、ZrO2中的一种或多种。本发明还公开了一种包括上述全氟聚合物膜的制备方法及其应用在电工产品中及航天设备。本发明提供的全氟聚合物膜具备高反射率并且抗辐照，可用于空间环境中的设备。