本发明提供了一种光刻胶清洗装置及其清洗方法，所述光刻胶清洗装置，包括溶解箱体、升降固定台、冲洗机构以及控制单元；所述溶解箱体包括用于盛装溶解液的溶解腔室；所述升降固定台置于所述溶解腔室内，用于承托硅片；所述冲洗机构包括冲洗喷头，该冲洗喷头置于高于所述升降固定台的上方空间处；所述控制单元用于控制所述升降固定台在溶解液液面上下之间切换，且用于控制所述冲洗机构移动到使其冲洗喷头对准所述升降固定台的位置。本发明的光刻胶清洗装置可通过控制单元控制溶解箱体、升降固定台及冲洗机构之间相互配合工作，以自动完成对未清洗的硅片清除残留的光刻胶，提高了生产效率与良品率，便于大规模应用。