本发明提供一种承载装置及气相外延设备，属于半导体设备技术领域，该承载装置用于在前置真空腔室和反应腔室之间传输工件，前置真空腔室内设置有第一平移驱动机构，承载装置包括托盘组件、第二平移驱动机构和连接件；第二平移驱动机构设置在托盘组件的背面，第二平移驱动机构通过连接件可移动地设置在第一平移驱动机构中；并且，第一平移驱动机构驱动托盘组件沿第一方向平移，第二平移驱动机构驱动托盘组件沿第二方向平移，第一方向与第二方向不同。本发明的承载装置可使托盘组件在不同的方向平移，实现了反应腔室内维护所涉及工件的一次性进出，大大提高了工作效率，也降低了因多次进出而导致的工件破损的风险。