Invention Publication
- Patent Title: 包含嵌段共聚物的组合物和使用该组合物生产硅质膜的方法
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Application No.: CN202080026363.6Application Date: 2020-04-06
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Publication No.: CN113677744APublication Date: 2021-11-19
- Inventor: 藤原嵩士 , 佐藤敦彦
- Applicant: 默克专利有限公司
- Applicant Address: 德国达姆施塔特
- Assignee: 默克专利有限公司
- Current Assignee: 默克专利有限公司
- Current Assignee Address: 德国达姆施塔特
- Agency: 北京三幸商标专利事务所
- Agent 刘卓然
- Priority: 19167746.7 20190408 EP
- International Application: PCT/EP2020/059723 2020.04.06
- International Announcement: WO2020/207950 EN 2020.10.15
- Date entered country: 2021-09-29
- Main IPC: C08J3/28
- IPC: C08J3/28 ; C08G77/60 ; C09D183/16 ; H01L21/02 ; C08G77/32 ; C08G77/38

Abstract:
提供一种能够填充窄且高纵横比的沟槽并且能够制造厚的硅质膜的硅质膜制造用组合物。[解决手段]本发明提供一种硅质膜制造用组合物,其包含(a)嵌段共聚物,其具有:具有5个或更多个硅原子的线性和/或环状聚硅烷主链嵌段和具有15个或更多个硅原子的聚碳硅烷主链嵌段,和(b)溶剂。
Public/Granted literature
- CN113677744B 包含嵌段共聚物的组合物和使用该组合物生产硅质膜的方法 Public/Granted day:2024-08-23
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