- 专利标题： 一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法
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申请号： CN202110647944.8申请日： 2021-06-10
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公开(公告)号： CN113307659B公开(公告)日： 2022-04-08
- 发明人: 刘晓波 , 安煊熜 , 高宇智 , 李健 , 张杨 , 张凡 , 李文静 , 权成 , 杨洁颖 , 张昊
- 申请人： 航天特种材料及工艺技术研究所
- 申请人地址： 北京市丰台区云岗北里40号院
- 专利权人： 航天特种材料及工艺技术研究所
- 当前专利权人： 航天特种材料及工艺技术研究所
- 当前专利权人地址： 北京市丰台区云岗北里40号院
- 代理机构： 北京格允知识产权代理有限公司
- 代理商 谭辉
- 主分类号： C04B41/89
- IPC分类号： C04B41/89 ; C04B41/87
摘要：
本发明涉及一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法。所述制备方法简单易操作，所需设备为常规干燥烧结设备，制备过程无有害溶剂，安全可靠，绿色环保；所制备的高发射率涂层强度高，韧性好，耐高温气流冲刷，与隔热瓦基体之间的结合强度大，结构协调匹配性好，抗热震性能优异；所述制备方法适用于石英陶瓷隔热瓦、石英/氧化铝陶瓷隔热瓦等各类陶瓷隔热瓦表面高发射率涂层制备，适用材料体系范围广，制备工艺具有普适性。
公开/授权文献
- CN113307659A 一种在隔热瓦上形成高发射率涂层的制备方法 公开/授权日：2021-08-27
