- 专利标题: 一种锰掺杂四氧化三钴多孔纳米片状材料及其制备方法与应用
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申请号: CN202110536373.0申请日: 2021-05-17
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公开(公告)号: CN113295737B公开(公告)日: 2022-10-18
- 发明人: 董帆 , 曹正茂 , 盛剑平 , 孙艳娟 , 李解元
- 申请人: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
- 申请人地址: 浙江省湖州市西塞山路819号南太湖科技创新综合体B1栋
- 专利权人: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
- 当前专利权人: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
- 当前专利权人地址: 浙江省湖州市西塞山路819号南太湖科技创新综合体B1栋
- 代理机构: 成都东恒知盛知识产权代理事务所
- 代理商 何健雄; 廖祥文
- 主分类号: G01N27/12
- IPC分类号: G01N27/12
摘要:
本发明公开了一种锰掺杂四氧化三钴多孔纳米片状材料及其制备方法与应用。是将锰元素的无机化合物、钴元素的无机化合物、六亚甲基四胺溶解于去离子水中,通过水热法制备出锰掺杂α‑Co(OH)2纳米片,将水热产物洗涤并干燥后,通过进一步煅烧处理获得锰掺杂四氧化三钴多孔纳米片材料。所制备的锰掺杂四氧化三钴材料具有良好的甲苯气体传感性能,并且响应/恢复时间较短以及稳定性良好,具有潜在的应用前景用于监测大气、化工厂、居家等环境中的甲苯含量。
公开/授权文献
- CN113295737A 一种锰掺杂四氧化三钴多孔纳米片状材料及其制备方法与应用 公开/授权日:2021-08-24