发明授权
- 专利标题: 一种荷正电纳滤膜及其制备方法
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申请号: CN202110507752.7申请日: 2021-05-10
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公开(公告)号: CN113289498B公开(公告)日: 2022-05-10
- 发明人: 刘文超 , 陈可可 , 谭惠芬 , 洪勇琦
- 申请人: 蓝星(杭州)膜工业有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市钱江经济开发区顺风路602号
- 专利权人: 蓝星(杭州)膜工业有限公司
- 当前专利权人: 蓝星(杭州)膜工业有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市钱江经济开发区顺风路602号
- 主分类号: B01D69/02
- IPC分类号: B01D69/02 ; B01D69/12 ; B01D71/56 ; B01D67/00 ; B01D61/02
摘要:
本发明涉及一种荷正电纳滤膜及其制备方法,荷正电纳滤膜包含支撑底膜和聚酰胺功能分离层,聚酰胺功能分离层是由含多元胺的水相溶液和多元酰氯的油相溶液在支撑底膜表面发生聚合反应制得;该荷正电纳滤膜还包括保护层,是用聚乙烯醇和戊二醛进行交联反应,在聚酰胺功能分离层表面形成一层致密膜层。本发明还包括荷正电纳滤膜的制备方法,先制备水相溶液和油相溶液,其次利用水溶液和油相溶液的界面聚合制备聚酰胺功能分离层,再制备保护层,经过去离子水清洗后制得荷正电纳滤膜。本发明的制备方法简单易控,原料易得、成本低廉。本发明制备的荷正电纳滤膜对多价阳离子有较高的截留率,荷正电稳定性也大幅提升。
公开/授权文献
- CN113289498A 一种荷正电纳滤膜及其制备方法 公开/授权日:2021-08-24