发明授权
- 专利标题: 红光发光二极管外延片及其制备方法
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申请号: CN202110311944.0申请日: 2021-03-24
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公开(公告)号: CN113224214B公开(公告)日: 2022-05-13
- 发明人: 邢振远 , 李彤 , 王世俊 , 曹敏 , 孙建建
- 申请人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 专利权人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人: 京东方华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人地址: 215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
- 主分类号: H01L33/14
- IPC分类号: H01L33/14 ; H01L33/30 ; H01L33/00
摘要:
本公开提供了红光发光二极管外延片及其制备方法,属于发光二极管制作领域。在p型AlInP限制层上依次生长p型AlGaAs欧姆接触层与p型AlGaAs电流扩展层。p型AlGaAs欧姆接触层与p型AlInP限制层欧姆接触层的晶格常数接近,将p电极制备在质量较好的p型AlGaAs欧姆接触层上,可以保证p电极与p型AlGaAs欧姆接触层之间具有良好的连接。p型AlGaAs欧姆接触层之后的p型AlGaAs电流扩展层,在p型AlGaAs欧姆接触层上生成质量更好的p型AlGaAs电流扩展层进行过渡,提高p型AlGaAs电流扩展层上生长的p型AlGaInP过度层的质量。
公开/授权文献
- CN113224214A 红光发光二极管外延片及其制备方法 公开/授权日:2021-08-06
IPC分类: