发明授权
摘要:
本发明公开了一种纳米光栅结构偏振器件,包括基底,基底上方设有过渡层,过渡层上方设置一维铝纳米线栅,一维铝纳米线栅包括设置在过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入铝光栅层中的三角形铝光栅,光线从基底向光栅方向入射。通过对各参数的调试,可使其在2‑20μm红外波段获得80%左右的透过率和90dB以上的偏振消光比,且透过率随波长变化波动较小,基本保持在80%~90%之间。在偏振成像、显示、医学应用、设备的小型化与集成化、光学存储和光通信等领域具有应用潜力。
公开/授权文献
- CN113204068A 一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件 公开/授权日:2021-08-03