Invention Grant
- Patent Title: 质量分析装置
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Application No.: CN201880098947.7Application Date: 2018-11-29
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Publication No.: CN112912991BPublication Date: 2025-01-24
- Inventor: 上田学 , 中野智仁 , 田中雄树
- Applicant: 株式会社岛津制作所
- Applicant Address: 日本国京都府
- Assignee: 株式会社岛津制作所
- Current Assignee: 株式会社岛津制作所
- Current Assignee Address: 日本国京都府
- Agency: 上海立群专利代理事务所
- Agent 杨楷; 毛立群
- International Application: PCT/JP2018/044042 2018.11.29
- International Announcement: WO2020/110264 JA 2020.06.04
- Date entered country: 2021-04-22
- Main IPC: H01J49/24
- IPC: H01J49/24 ; G01N27/62 ; H01J49/04 ; H01J49/06 ; H01J49/10 ; H01J49/42

Abstract:
本发明涉及质量分析装置,是搭载了基于ES I法的离子源的单一型的四极型质量分析装置,并且是具备排气速度相对较小的真空泵的小型装置。将用于将离子从离子化室(2)导入第1中间真空室(3)的去溶剂管(11)的内径设为作为小型质量分析装置来说较大的0.4mmφ,并决定旋转泵(18)的排气速度以使去溶剂管(11)的截面开口的面积与第1中间真空室(3)内的压力的积达到15~40mm2·Pa的范围内。由此,能够确保高检测灵敏度并减轻因液滴导致的去溶剂管(11)的堵塞。此外,由于第1中间真空室(3)内的压力也不必设得过分高,因此能够使用排气速度较小的小型的旋转泵作为旋转泵(18)。
Public/Granted literature
- CN112912991A 质量分析装置 Public/Granted day:2021-06-04
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