Invention Grant
- Patent Title: 一种提高水平井分段多簇受效率的射孔参数优化方法
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Application No.: CN202010674549.4Application Date: 2020-07-14
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Publication No.: CN111963157BPublication Date: 2023-08-22
- Inventor: 吴顺林 , 赵振峰 , 李宪文 , 张矿生 , 唐梅荣 , 张翔 , 李楷 , 杜现飞 , 吕昌盛 , 李晓燕
- Applicant: 中国石油天然气股份有限公司
- Applicant Address: 北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
- Assignee: 中国石油天然气股份有限公司
- Current Assignee: 中国石油天然气股份有限公司
- Current Assignee Address: 北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
- Agency: 西安吉盛专利代理有限责任公司
- Agent 张培勋
- Main IPC: E21B49/00
- IPC: E21B49/00 ; E21B43/11 ; E21B43/26 ; G06F30/20

Abstract:
本发明公开了一种提高水平井分段多簇受效率的射孔参数优化方法,包括以下步骤:第一步、建立目标井的拟三维模型,根据拟三维模型确定目标井各条裂缝中的流量和各条裂缝的入口压力;第二步,建立目标井的各簇射孔参数限流压裂模型;第三步,通过拟三维模型和各簇射孔参数限流压裂模型,得出限流压裂各射孔簇孔径所应满足关系;第四步,根据限流压裂各射孔簇孔径所应满足关系,精确得出各射孔簇的孔眼数和簇长;第五步,按照得出的各射孔簇的孔眼数和簇长进行射孔,实现水平井段内各簇均匀起裂,进液增加裂缝与储层的接触面积,从而提高单井的产量。
Public/Granted literature
- CN111963157A 一种提高水平井分段多簇受效率的射孔参数优化方法 Public/Granted day:2020-11-20
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