- 专利标题: 一种带状工件的三相电磁抹拭装置及热浸镀系统
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申请号: CN202011019159.X申请日: 2020-09-24
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公开(公告)号: CN111926278B公开(公告)日: 2021-01-08
- 发明人: 陈威霖 , 韩小涛 , 丁同海 , 谢剑峰 , 谌祺 , 曹全梁
- 申请人: 华中科技大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人: 华中科技大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- 代理机构: 武汉华之喻知识产权代理有限公司
- 代理商 彭翠; 曹葆青
- 主分类号: C23C2/06
- IPC分类号: C23C2/06 ; C23C2/24 ; C23C2/40
摘要:
本发明属于热浸镀领域,更具体地,涉及一种带状工件的三相电磁抹拭装置及热浸镀系统。该装置包含电磁抹拭单元,该电磁抹拭单元包含磁极相对的第一磁场发生器和第二磁场发生器;所述第一磁场发生器和第二磁场发生器均包括铁芯和至少一组三相线圈;每一组所述三相线圈包括A相线圈、B相线圈和C相线圈;所述A相线圈、B相线圈和C相线圈依次围绕所述铁芯上排列设置的凸起磁极而绕制。相比主磁通方向在竖直方向的三相电磁抹拭装置,该装置的主磁通方向为垂直于带状工作所在平面的法线方向,因此在平行于带状工件的切线方向上的磁场梯度变化更大,产生的切向电磁力更大,从而提高抹拭效率。
公开/授权文献
- CN111926278A 一种带状工件的三相电磁抹拭装置及热浸镀系统 公开/授权日:2020-11-13
IPC分类: