发明授权
- 专利标题: 化学镀钯液和钯镀膜
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申请号: CN201980013443.5申请日: 2019-02-15
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公开(公告)号: CN111712589B公开(公告)日: 2022-10-04
- 发明人: 笹村哲也 , 染矢立志 , 田边克久 , 和田真辅 , 古矢绘理子
- 申请人: 上村工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪
- 专利权人: 上村工业株式会社
- 当前专利权人: 上村工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 刘兵; 戴香芸
- 优先权: 2018-027631 20180220 JP
- 国际申请: PCT/JP2019/005535 2019.02.15
- 国际公布: WO2019/163665 JA 2019.08.29
- 进入国家日期: 2020-08-14
- 主分类号: C23C18/44
- IPC分类号: C23C18/44
摘要:
本发明提供一种化学镀钯液,其至少使用肼作为还原剂,在酸性至中性附近的浴稳定性和长期稳定性优异,同时可以抑制伴随抗蚀剂溶出而引起的Pd镀膜的析出速度的降低。本发明的化学镀钯液含有:钯化合物;肼或其盐;以及选自由NH2NHCOR1式所示的式(1)的化合物或其盐、和(NH2NHCO)2(R2)n所示的式(2)的化合物或其盐组成的组中的至少一种;并且,所述化学镀钯液满足pH为8以下。(式中,R1为H、NH2、碳数1‑10的烷基、碳数1‑10的烷氧基、NHNH2或芳香族基团,且R1可具有取代基,R2为(CH2)或芳香族基团,且R2可具有取代基,n为0‑10的整数)。
公开/授权文献
- CN111712589A 化学镀钯液和钯镀膜 公开/授权日:2020-09-25
IPC分类: