发明授权
- 专利标题: 匀光膜、背光模组和显示装置
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申请号: CN202010614984.8申请日: 2020-06-30
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公开(公告)号: CN111624816B公开(公告)日: 2022-07-05
- 发明人: 金亮亮 , 杨泽洲 , 张树柏 , 马若玉 , 桑建
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 吴俣; 姜春咸
- 主分类号: G02F1/13357
- IPC分类号: G02F1/13357 ; G02B5/02 ; G02B27/00
摘要:
本公开提供了一种匀光膜,包括:基材膜层,基材膜层上设置呈阵列排布的多个匀光结构,匀光结构包括:位于基材膜层的入光面的第一凹槽和位于位于基材膜层的出光面的第二凹槽,入光面和入光面相对设置,第一凹槽与第二凹槽的形状均为为正棱锥形且互为相似形,第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影完全覆盖第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影,第一凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影的轮廓为第一正多边形,第二凹槽在基材膜层的主体所处平面上的正投影的轮廓为第二正多边形,第一正多边形与第二正多边形的中心重合,第一正多边形上任意一点到第二正多边形的最小距离相等。
公开/授权文献
- CN111624816A 匀光膜、背光模组和显示装置 公开/授权日:2020-09-04
IPC分类: