- 专利标题: 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置
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申请号: CN201880063208.4申请日: 2018-09-28
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公开(公告)号: CN111465722B公开(公告)日: 2022-07-12
- 发明人: 黄在祥
- 申请人: 南韩商奥森里德股份有限公司
- 申请人地址: 韩国忠清南道
- 专利权人: 南韩商奥森里德股份有限公司
- 当前专利权人: 南韩商奥森里德股份有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国忠清南道
- 代理机构: 北京弘权知识产权代理有限公司
- 代理商 郭放; 崔春植
- 优先权: 10-2017-0125738 20170928 KR 10-2017-0125740 20170928 KR
- 国际申请: PCT/KR2018/011550 2018.09.28
- 国际公布: WO2019/066566 KO 2019.04.04
- 进入国家日期: 2020-03-27
- 主分类号: B23H5/08
- IPC分类号: B23H5/08 ; C25F7/00 ; C25F3/16
摘要:
实施例涉及电解研磨用电极框架、可变型电极框架及包括其的电解研磨装置。为了达成所述目的,实施例的电极框架作为在内部形成有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用的电极框架,可以包括:负极框架,其与所述电解研磨对象物隔开配置,包括第一方向的第一负极板、第二方向的第二负极板、与所述第一方向及第二方向不同方向的第三方向的第三负极板;及电极结合构件,其配置于所述电解研磨对象物的角部,使所述第一负极板至所述第三负极板连接。所述电极结合构件可以包括与所述第一负极板结合的第一支架、与所述第二负极板结合的第二支架及与所述第三负极板结合的第三支架。在所述负极框架的一侧,可以包括使所述负极框架从所述电解研磨对象物的侧面或底面隔开的隔开构件。
公开/授权文献
- CN111465722A 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置 公开/授权日:2020-07-28