本申请公开了一种显示面板的制备方法及显示面板，所述制备方法通过半色调光罩对基板上的光阻层进行曝光处理，以在显示面板的显示区形成制备第一孔的第一区，在显示面板的非显示区形成制备第二孔的第二区；在去除第一区的部分光阻及第二区的全部光阻后，利用蚀刻工艺同时蚀刻第一区的第一剩余光阻及第二区，对应获得第二剩余光阻及第二主孔；在去除第二剩余光阻后；同时蚀刻第一区及第二区，对应获得第一孔及第二从孔。其中，第二孔包括第二主孔与第二从孔，第二孔的深度大于第一孔的深度，以简化制程，减少设备投入，在降低生产成本的同时可满足位于显示面板不同区域的孔在具有不同深度时的制备要求，提高了设备稼动率及产品的竞争力。