- 专利标题: 一种原位生成BiVO4/Bi2O3异质结的方法及其光催化应用
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申请号: CN202010109395.4申请日: 2020-02-22
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公开(公告)号: CN111266101B公开(公告)日: 2021-08-24
- 发明人: 姜鲁华 , 王功 , 刘静
- 申请人: 青岛科技大学
- 申请人地址: 山东省青岛市市北区郑州路53号
- 专利权人: 青岛科技大学
- 当前专利权人: 青岛科技大学
- 当前专利权人地址: 山东省青岛市市北区郑州路53号
- 代理机构: 青岛中天汇智知识产权代理有限公司
- 代理商 刘晓
- 主分类号: B01J23/22
- IPC分类号: B01J23/22 ; B01J37/34 ; C02F1/30 ; C02F101/30
摘要:
本发明涉及一种通过紫外光辐照制备BiVO4/Bi2O3光催化剂的方法及其在光催化中的应用。具体包括如下步骤:将BiVO4粉末涂覆到导电基底上,置于碱性电解液中,用紫外光对涂覆在导电基底上的BiVO4辐照一定时间,即得到BiVO4/Bi2O3光催化剂。本发明的优势在于,紫外光辐照下BiVO4表面能够原位生成Bi2O3,得到BiVO4/Bi2O3异质结,具有界面面积大、界面接触紧密等特点;本发明制备的BiVO4/Bi2O3异质结作为光催化剂对有机污染物具有良好的光催化氧化性能。此外,本发明所涉及的光辐照技术制备工艺简单、绿色环保。
公开/授权文献
- CN111266101A 一种原位生成BiVO4/Bi2O3异质结的方法及其光催化应用 公开/授权日:2020-06-12