发明公开
CN1112320A 抛光电路和抛光方法
无效 - 撤回
- 专利标题： 抛光电路和抛光方法
- 专利标题（英）： Polishing circuit and polishing method
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申请号： CN94112773.7申请日： 1994-12-06
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公开(公告)号： CN1112320A公开(公告)日： 1995-11-22
- 发明人: 小笠原信雄 , 远藤昇 , 三本和穗 , 高濑晶彦
- 申请人： 株式会社日立制作所
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社日立制作所
- 当前专利权人： 株式会社日立制作所
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 曹济洪; 王岳
- 优先权： 304943/93 1993.12.06 JP
- 主分类号： H04L12/56
- IPC分类号： H04L12/56
摘要：
所提供的是并行进行多个抛光的抛光方法和抛光电路，该多个抛光取决于异步转移模式网络的业务量所定义的抛光的抛光项目。多个业务量监视电路11独立地和并行地对由该异步转移模式网络提供的通信业务的输入信元进行多个项目的业务量监视。一个总确定电路根据基于包含在该输入信元首部中CLP值的通信业务所指示的确定规则以及并行地从各监视电路得到的监视结果，决定是否要标记，放弃或传送该输入信元，以进行抛光。
