- 专利标题: 气相沉积涂覆的流动路径用于改善金属相互作用分析物的色谱法的用途
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申请号: CN201880060586.7申请日: 2018-09-18
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公开(公告)号: CN111107931B公开(公告)日: 2023-10-10
- 发明人: M.A.劳伯 , M.H.德拉诺 , S.A.麦考尔 , J.L.贝兰格 , T.A.多尔德维勒 , K.史密斯 , P.赖因维尔 , D.D.沙赫 , S.J.施纳 , C.多尼努 , M.东根
- 申请人: 沃特世科技公司
- 申请人地址: 美国麻萨诸塞州
- 专利权人: 沃特世科技公司
- 当前专利权人: 沃特世科技公司
- 当前专利权人地址: 美国麻萨诸塞州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 李进; 彭昶
- 国际申请: PCT/IB2018/057180 2018.09.18
- 国际公布: WO2019/053693 EN 2019.03.21
- 进入国家日期: 2020-03-18
- 主分类号: B01J20/26
- IPC分类号: B01J20/26 ; B01J20/291 ; G01N30/12
摘要:
本发明公开了一种用于分离分析物的装置。所述装置具有样品注射器,样品注射针,与所述样品注射器连通的样品贮存器容器,在所述样品注射器下游的色谱柱,以及连接所述样品注射器和所述柱的流体导管。所述流体导管、所述样品注射器、所述样品贮存器容器和所述柱的5个内表面形成具有润湿表面的流动路径。所述流动路径的所述润湿表面的一部分涂覆有烷基甲硅烷基涂层,所述烷基甲硅烷基涂层对所述分析物中的至少一种是惰性的。所述烷基甲硅烷基涂层具有式I:#imgabs0#R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地选自(C1‑C6)烷氧基、‑NH(C1‑C6)烷基、‑N((C1‑C6)烷基)2、OH、ORA和卤。RA表示与流体系统的内表面的连接点。R1、R2、R3、R4、R5和R6中的至少一个为ORA。X为(C1‑C20)烷基、‑O[(CH2)2O]1‑20‑、‑(C1‑C10)[NH(CO)NH(C1‑C10)]1‑20‑或‑(C1‑C10)[烷基苯基(C1‑C10)烷基]1‑20‑。
公开/授权文献
- CN111107931A 气相沉积涂覆的流动路径用于改善金属相互作用分析物的色谱法的用途 公开/授权日:2020-05-05