一种改性金葱镭射粉制作工艺
摘要:
本发明公开了一种改性金葱镭射粉制作工艺,包括以下步骤a涂布,b膜压,c镀铝,d UV涂布,e分条;其中步骤a将基膜平放在涂布机上进行涂布,涂布机以一定的速率运转,采用150目陶瓷辊进行居中涂布,两边漏涂不超过1.5mm,基膜横向收缩量控制在2mm之内,将一层离型层干涂在基膜上,涂布好一层离型层的基膜经过烘炉进行四节或五节烘干;通过在基膜均价涂布一层离型层,模压机压花金葱镭射粉,镀铝机上镀金属介质,使其具有金属质感,上UV涂布机上调节镭射粉亮度,最后在分条机上用刮刀刮粉,金葱镭射粉和薄膜分离,去掉金葱镭射粉中的薄膜,避免在环境中无法讲解,缩小金葱镭射粉直径到0.01mm,更加细腻,增加镭射金葱粉的亮度,使其效果更佳。
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