发明公开
- 专利标题: 成像装置和成像系统
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申请号: CN201910821206.3申请日: 2019-09-02
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公开(公告)号: CN110881095A公开(公告)日: 2020-03-13
- 发明人: 新谷悟 , 西村贤一 , 大屋武
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 姜雁琪
- 优先权: 2018-165936 2018.09.05 JP
- 主分类号: H04N5/225
- IPC分类号: H04N5/225 ; G03B17/02 ; G03B17/55
摘要:
本公开涉及一种成像装置,其壳体的第一侧表面、第二侧表面、上表面和底表面由金属形成,并且所述第一侧表面、所述第二侧表面、所述上表面和所述下表面中的至少两个表面包括由多个凹槽形成的凹槽区域。本公开还涉及一种成像系统。
公开/授权文献
- CN110881095B 成像装置和成像系统 公开/授权日:2022-01-11