Invention Publication
- Patent Title: 再制造方法
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Application No.: CN201910793116.8Application Date: 2019-08-27
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Publication No.: CN110874033APublication Date: 2020-03-10
- Inventor: 中村颂太 , 川上卓也 , 浜田孝俊 , 大石浩一 , 浅沼直哉 , 草野洋平
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 贾金岩
- Priority: 2018-160421 2018.08.29 JP
- Main IPC: G03G15/08
- IPC: G03G15/08 ; G03G21/18

Abstract:
一种用于从第一显影装置再制造第二显影装置的再制造方法,第一显影装置包含:框架,其设置有用于容纳显影剂的显影剂容纳腔室,框架具有用于使显影剂容纳腔室与框架的外部连通的开口;和第一帽构件,其被构造成密封开口,第一帽构件利用能够溶解框架的第一粘合剂粘结到框架的第一区域,且再制造方法包含:从第一区域去除第一帽构件从而在第一区域中形成粗糙表面;用显影剂填充显影剂容纳腔室;且将不同于第一帽构件的第二帽构件粘结到框架的不同于第一区域的第二区域以利用第二帽构件密封开口。
Public/Granted literature
- CN110874033B 再制造方法 Public/Granted day:2023-03-28
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