Invention Grant
- Patent Title: 确定边缘粗糙度参数
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Application No.: CN201880041728.5Application Date: 2018-05-16
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Publication No.: CN110799903BPublication Date: 2021-11-16
- Inventor: M·J·J·杰克 , 理查德·金塔尼利亚 , A·J·登鲍埃夫 , M·库比斯
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 王益
- Priority: 17176802.1 20170620 EP 17195151.0 20171006 EP
- International Application: PCT/EP2018/062778 2018.05.16
- International Announcement: WO2018/233947 EN 2018.12.27
- Date entered country: 2019-12-20
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20

Abstract:
一种确定边缘粗糙度参数的方法,包括以下步骤:(1010)控制辐射系统以在用于接收衬底的测量位置处提供辐射斑;(1020)接收来自传感器的测量信号,所述传感器用于当量测目标被所述辐射斑照射时测量在所述测量位置处被所述量测目标衍射的禁用衍射阶(诸如第二阶)的强度,所述量测目标包括重复图案,所述重复图案被配置成通过(约0.5的)线宽/节距比率的配置来控制导致衍射阶的禁用的相消干涉的量,所述传感器被配置为基于所测量的强度来提供所述测量信号;和(1040)基于所述禁用衍射阶的所测量的强度确定边缘粗糙度参数。
Public/Granted literature
- CN110799903A 确定边缘粗糙度参数 Public/Granted day:2020-02-14
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IPC分类: