- 专利标题： 包含用于全息曝光的光致聚合物层和高耐受性涂料层的膜结构
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申请号： CN201880030710.5申请日： 2018-05-08
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公开(公告)号： CN110582808B公开(公告)日： 2021-08-27
- 发明人: S.科斯特罗明 , B.赫尔茨贝格 , T.勒莱 , D.赫内尔 , T.费克 , H-G.奥韦勒
- 申请人： 科思创德国股份有限公司
- 申请人地址： 德国勒沃库森
- 专利权人： 科思创德国股份有限公司
- 当前专利权人： 科思创德国股份有限公司
- 当前专利权人地址： 德国勒沃库森
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 邵长准; 周齐宏
- 优先权： 17170294.7 20170509 EP
- 国际申请： PCT/EP2018/061828 2018.05.08
- 国际公布： WO2018/206556 DE 2018.11.15
- 进入国家日期： 2019-11-08
- 主分类号： G11B7/24044
- IPC分类号： G11B7/24044 ; G03H1/02 ; B42D25/328
摘要：
本发明涉及一种包含可固化的保护层C和光致聚合物层B的层结构，一种用于制备该层结构的方法，一种通过使用该层结构制备全息图的方法，一种密封全息介质以及该层结构用于制备全息图的用途。
公开/授权文献
- CN110582808A 包含用于全息曝光的光致聚合物层和高耐受性涂料层的膜结构 公开/授权日：2019-12-17
IPC分类:
