- 专利标题： 确定光刻掩模焦点位置的方法和执行这种方法的度量系统
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申请号： CN201910135820.4申请日： 2019-02-21
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公开(公告)号： CN110174816B公开(公告)日： 2023-03-28
- 发明人: M.科赫 , D.黑尔韦格 , R.卡佩利 , M.迪茨尔
- 申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址： 德国上科亨
- 专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国上科亨
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 王蕊瑞
- 优先权： 102018202637.8 20180221 DE
- 主分类号： G03F1/84
- IPC分类号： G03F1/84 ; G03F7/20 ; G01M11/02
摘要：
为了确定光刻掩模(5)的焦点位置，记录不含将要成像结构的测量区域的焦点堆叠体并且评估记录的图像的散斑图案。
公开/授权文献
- CN110174816A 确定光刻掩模焦点位置的方法和执行这种方法的度量系统 公开/授权日：2019-08-27
