Invention Grant
- Patent Title: 具有改进的激光雕刻能力和改进的化学品耐受性的用于ID文件的塑料薄膜
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Application No.: CN201780079645.0Application Date: 2017-12-18
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Publication No.: CN110088175BPublication Date: 2023-03-31
- Inventor: H.普德莱纳 , G.齐奥瓦拉斯 , K.普兰肯 , S.彦克 , C.科勒
- Applicant: 科思创德国股份有限公司
- Applicant Address: 德国勒沃库森
- Assignee: 科思创德国股份有限公司
- Current Assignee: 科思创德国股份有限公司
- Current Assignee Address: 德国勒沃库森
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 张华; 林毅斌
- Priority: 16206115.4 20161222 EP
- International Application: PCT/EP2017/083367 2017.12.18
- International Announcement: WO2018/114836 DE 2018.06.28
- Date entered country: 2019-06-21
- Main IPC: C08J5/18
- IPC: C08J5/18 ; B32B27/08 ; B32B27/36 ; B42D25/29 ; B42D25/23 ; B42D25/00
Abstract:
本发明涉及具有改进的激光雕刻能力、化学品耐受性和机械负荷的塑料薄膜，共挤出薄膜形式的这种薄膜的具体实施方式，包含这种薄膜的层结构，这种薄膜的用途，以及包含这种薄膜的安全文件，优选识别文件。
Public/Granted literature
- CN110088175A 具有改进的激光雕刻能力和改进的化学品耐受性的用于ID文件的塑料薄膜 Public/Granted day:2019-08-02
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