一种高强度电子光箔及其制造工艺
摘要:
本发明公开了一种高强度电子光箔,该电子光箔具有三层复合结构,其中容量层为表面(100)晶面占比98.5%以上的超纯偏析铝构成,厚度为40‑60μm,芯层为高强度的Al合金,厚度为15‑30μm,其化学成分以质量%计,含Cu 0.2‑1.2%、Zn 0.1‑0.5%、Mn 0.05‑0.15%、Gd 0.01‑0.05%、Ce 0.01‑0.05%,剩余部分为Al和其它不可避免的微量元素构成,同时还公开了该电子光箔的制造工艺;本发明的优点:相较于常规产品,抗拉强度、弯折强度可提升30%以上。
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