- 专利标题: 一种碳纳米层包覆硅负极材料及其制备和应用
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申请号: CN201711339205.2申请日: 2017-12-14
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公开(公告)号: CN109962214B公开(公告)日: 2022-03-08
- 发明人: 王素力 , 戚甫来 , 孙公权
- 申请人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 申请人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 代理机构: 沈阳科苑专利商标代理有限公司
- 代理商 马驰
- 主分类号: H01M4/36
- IPC分类号: H01M4/36 ; H01M4/38 ; H01M4/583 ; H01M4/62 ; H01M10/0525
摘要:
本发明涉及锂离子负极材料技术领域,具体涉及一种碳纳米层包覆硅负极材料及其制备方法,该制备方法包括如下步骤:A、制备碳前体;B、制备碳硅前体;C、制备碳纳米层包覆硅负极材料。制备的碳硅负极材料为多孔碳包覆纳米硅的纳米片结构,包覆的硅纳米粒子分布于碳层表面。包覆结构极大的降低了硅的体积膨胀;高孔隙率的多孔结构有效的缓解了硅膨胀对电极结构影响;并且碳纳米层提供了较好的导电网络。本发明包覆方法简便,原料来源广泛,价格低廉,工艺条件易控制,操作成本低,极具工业化前景。相比现行的包覆方法,具有包覆层均匀,包覆速率快等优点。本发明的碳纳米层包覆硅负极材料比容量高,循环性能和倍率性能优良。
公开/授权文献
- CN109962214A 一种碳纳米层包覆硅负极材料及其制备和应用 公开/授权日:2019-07-02