一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置
摘要:
本发明涉及电解铜箔生产设备技术领域,具体地,涉及一种用于铜箔电解生产的密封圈动态清洗装置,包括有多个引导密封圈的引导轮组件、清洁装置和工作台,所述工作台的端均设置有清洁水箱,工作台两侧均设置有用于将密封圈按压贴合在阴极辊上的按压装置,所述工作台的两侧还设置有驱动按压装置转动的驱动组件,引导轮组件设置在按压装置的侧部,清洁水箱的上方的一侧设置有导入轮,清洁水箱的另一侧设置有导出轮,清洁装置包括有清洁组件和水平移动组件,所述水平移动组件设置在清洁水箱的侧壁上,水平移动组件的输出端上竖直设置有安装杆,所述清洁组件安装在安装杆上,并且清洁组件的输出端延伸至清洁箱内,本装置可以高效清洁密封圈。
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