一种用于同步辐射共聚焦荧光实验的标样制备方法
Abstract:
本发明涉及一种用于同步辐射共聚焦荧光实验的标样制备方法,其包括以下步骤:步骤S101,在一硅衬底的整个顶面上沉积一铜薄膜,并切割带有所述铜薄膜的硅衬底;步骤S102,刻蚀所述铜薄膜以及紧邻该铜薄膜的具有部分厚度的所述硅衬底,以形成一铜条带和一第一衬底部;以及步骤S103,刻蚀所述铜条带以及第一衬底部,以形成一铜系带和一第二衬底部。通过本发明制备的标样可以便于更精确地校准同步辐射共聚焦荧光实验中的设备,提升共聚焦微元标定的准确度。
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