发明公开
- 专利标题: 一种低温等离子体协同疏水二氧化硅作用下挥发性有机物富集制氢的新工艺
- 专利标题(英): Novel enrichment hydrogen production process of volatile organic compounds under action of low-temperature plasmas and hydrophobic silicon dioxide
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申请号: CN201910104311.5申请日: 2019-02-01
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公开(公告)号: CN109821348A公开(公告)日: 2019-05-31
- 发明人: 王卉 , 曹莹莹 , 张蕾 , 陈丹丹 , 陈泽文 , 吴梦瑶
- 申请人: 杭州电子科技大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
- 专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
- 代理机构: 杭州君度专利代理事务所
- 代理商 朱亚冠
- 主分类号: B01D53/04
- IPC分类号: B01D53/04 ; C01B3/36 ; C01B3/38
摘要:
本发明公开一种低温等离子体协同疏水二氧化硅作用下挥发性有机物富集制氢的新工艺。该方法在等离子体反应器中填充疏水二氧化硅,用于废气中VOCs的吸附与富集。疏水二氧化硅对VOCs进行选择性吸附,即疏水二氧化硅只吸附VOCs,而对水气等杂质的吸附能力很弱。而后当疏水二氧化硅对VOCs吸附饱和后,启动等离子反应器,水蒸气被分解成OH和H等活性自由基粒子,并在疏水二氧化硅的催化作用下与VOCs反应,最终生成清洁能源H2,从而达到净化VOCs制氢的目的。本发明利用疏水二氧化硅为吸附剂和催化剂,通过低温等离子体放电诱导水蒸气重整反应,使VOCs高效低能耗降解,并生成清洁能源H2,实现变废为宝。
IPC分类: