- 专利标题: 基于隧穿氧化层的键合硅PIN辐射响应探测器及制备方法
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申请号: CN201910004641.7申请日: 2019-01-03
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公开(公告)号: CN109686812B公开(公告)日: 2020-04-03
- 发明人: 于民 , 刘佳乐 , 王景玺
- 申请人: 北京大学
- 申请人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 专利权人: 北京大学
- 当前专利权人: 北京大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 代理机构: 北京万象新悦知识产权代理有限公司
- 代理商 苏爱华
- 主分类号: H01L31/117
- IPC分类号: H01L31/117 ; H01L31/18
摘要:
本发明公开了一种基于隧穿氧化层的键合硅PIN辐射响应探测器及其制备方法。该探测器包括键合在一起的探测层硅片和收集层硅片,以及二者之间的超薄二氧化硅层,其中:所述探测层硅片的正面有掺杂形成的P+区,所述P+区之外的硅表面覆盖有二氧化硅层,所述P+区上面覆盖有薄金属层,该薄金属层边缘具有场板结构;所述收集层硅片的背面全部为掺杂形成的N+区;所述N+区表面覆盖有厚金属层。本发明的辐射响应探测器可用于核辐射领域的超快响应测量,在辐射防护、空间监测等领域有着重要应用。
公开/授权文献
- CN109686812A 基于隧穿氧化层的键合硅PIN辐射响应探测器及制备方法 公开/授权日:2019-04-26
IPC分类: