发明授权
- 专利标题: 一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备
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申请号: CN201910118898.5申请日: 2019-01-26
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公开(公告)号: CN109590824B公开(公告)日: 2020-10-20
- 发明人: 付莹 , 于占东 , 杨彬 , 郭继宁 , 邢星 , 于震
- 申请人: 渤海大学
- 申请人地址: 辽宁省锦州市松山新区科技路19号渤海大学
- 专利权人: 渤海大学
- 当前专利权人: 中科晶益(东莞)材料科技有限责任公司
- 当前专利权人地址: 辽宁省锦州市松山新区科技路19号渤海大学
- 主分类号: B24B21/02
- IPC分类号: B24B21/02 ; B24B21/18 ; B24B41/06
摘要:
本发明公开了一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备,属于旋转靶加工设备领域,用以解决抛光设备存在不方便对旋转靶端口台阶处进行抛光的问题,包括机架、装夹机构和抛光机构,机架由第一支撑座和第二支撑座组成,装夹机构可滑动地设置在第一支撑座上,抛光机构可滑动地设置在所述第二支撑座上,装夹机构包括第一底座、转动筒、螺纹块顶杆,所述抛光机构包括两组抛光组、第二底座、摆臂和丝杠,本发明的装夹机构能够对不同长度的旋转靶进行固定,抛光机构能够自动对旋转靶整体进行抛光,在抛光机构移动至旋转靶端口处时,通过升降轮的调整能够让抛光机构对旋转靶端口的台阶进行抛光,能够减少工人的参与,降低工人劳动强度,提高工作效率。
公开/授权文献
- CN109590824A 一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备 公开/授权日:2019-04-09