- 专利标题： 一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用
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申请号： CN201811303460.6申请日： 2018-11-02
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公开(公告)号： CN109554119B公开(公告)日： 2020-11-20
- 发明人: 窦文涛 , 宗艳民 , 梁庆瑞 , 王含冠 , 其他发明人请求不公开姓名
- 申请人： 山东天岳先进材料科技有限公司
- 申请人地址： 山东省济南市高新区新宇路西侧世纪财富中心AB座1106-6-01
- 专利权人： 山东天岳先进材料科技有限公司
- 当前专利权人： 山东天岳先进材料科技有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省济南市高新区新宇路西侧世纪财富中心AB座1106-6-01
- 代理机构： 济南千慧专利事务所
- 代理商 吴绍群
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; H01L21/304
摘要：
本发明提出了一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液，所述抛光液包括：氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂，所述pH稳定剂为硝酸铝。本发明的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性，并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。本发明由于在抛光液中加入了pH值稳定剂硝酸铝，使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强，并且抛光液不容易发生硬团聚。本发明的抛光液对环境无污染，可以采用循环供料的方式使用。
公开/授权文献
- CN109554119A 一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及其应用 公开/授权日：2019-04-02
