本发明涉及一种场传感器设备(99)，该场传感器设备包括：参考场传感器(10)，用参考电流偏置，该参考场传感器响应于场提供参考传感器信号(14)；以及校准场传感器(20),用单独可调电流偏置并响应于该场提供校准传感器信号(24)。控制电路以不同于参考电流的校准电流来控制校准场传感器的可调电流偏置，使得校准场传感器响应于共同场提供基本上等于参考传感器信号的校准传感器信号。该场传感器设备被布置成当处于校准模式时暴露于均匀校准场，并且当处于操作模式时暴露于为场梯度的操作场。