发明授权
- 专利标题： 阵列基板及其制造方法
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申请号： CN201811194330.3申请日： 2018-10-15
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公开(公告)号： CN109285844B公开(公告)日： 2020-12-25
- 发明人: 韦显旺
- 申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
- 申请人地址： 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
- 专利权人： 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人： 深圳市华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
- 代理机构： 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 黄威
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12 ; H01L21/77
摘要：
一种阵列基板，用于显示面板。所述阵列基板包含一基板；一栅极层，设于所述基板上，所述栅极层包括栅极线；一有机光阻层，涂布于所述栅极层及所术基板上，所述有机光阻层对应所述栅极线设有凹槽；一栅极绝缘层，设于所述有机光阻层上；一金属氧化物层，设于所述栅极绝缘层上；及一金属层，设于所述金属氧化物层上，所述金属层及所述金属氧化物层通过光刻及蚀刻工艺定义源极及漏极区线路、半导体区，及像素区。
公开/授权文献
- CN109285844A 阵列基板及其制造方法 公开/授权日：2019-01-29
IPC分类:
