本发明公开了一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，包括底座，所述底座上固定设有搅拌箱，所述搅拌箱下设有空腔一，所述搅拌箱的侧壁内开设有空腔二，所述空腔二内填充有导热介质，所述导热介质内设有若干加热棒，所述搅拌箱设有封盖，所述搅拌箱内设有凹槽，所述凹槽内设有转盘，所述转盘上固定设有立柱，所述立柱周围与所述转盘之间固定设有搅拌挡板，所述搅拌挡板远离所述立柱的一侧中部固定设有搅拌杆。有益效果：相较于普通的浸泡清洗，针对性的清洁，增加了清洗的洁净度和清洗效率。增加了去除有机污染物的力度。通过在空腔一内设有超声波发生器，使得搅拌箱内的硅片在经受搅拌清洗外，增加超声波清洗，双重清洗，进一步的增加清洗的力度。