Invention Grant
- Patent Title: 天线及等离子体处理装置
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Application No.: CN201810642400.0Application Date: 2018-06-21
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Publication No.: CN109121276BPublication Date: 2021-10-12
- Inventor: 河田祐纪 , 小山纮司
- Applicant: 东京毅力科创株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 东京毅力科创株式会社
- Current Assignee: 东京毅力科创株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 安香子
- Priority: 2017-122451 20170622 JP
- Main IPC: H05H1/24
- IPC: H05H1/24

Abstract:
本发明提供一种天线及等离子体处理装置。本发明的天线具备电介质窗及设置于电介质窗的一个面的缝隙板,该天线中,将缝隙板上各缝隙(S)的宽度方向的中央位置并且长度方向的中央位置作为基准位置(g)时,各缝隙(S)的基准位置(g)位于以重心(G0)为中心的虚拟圆上,连结各缝隙(S)的基准位置(g)与这些缝隙所属的虚拟点(G1)的线段从虚拟点(G1)以放射状存在,且相邻的这些线段之间的角度(β1~β4)相等,并且,基准位置(g)上的各缝隙(S)的长度方向与该缝隙(S)所属的上述线段所成的角度(θ1~θ4)相等。
Public/Granted literature
- CN109121276A 天线及等离子体处理装置 Public/Granted day:2019-01-01
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IPC分类: